Sputtering ass eng vun den Haapttechnike fir dënn Filmmaterialien ze preparéieren.Et benotzt Ionen generéiert vun Ionequellen fir an engem Vakuum ze beschleunegen an aggregéiert fir Héichgeschwindeg Energie Ionestrahlen ze bilden, déi zolidd Uewerfläch bombardéieren an kinetesch Energie tëscht Ionen a festen Uewerflächatomen austauschen.D'Atomer op der fester Uewerfläch verloossen de Feststoff a ginn op der Uewerfläch vum Substrat deposéiert.De bombardéierte Feststoff ass de Rohmaterial fir den dënnen Film ze preparéieren, deen duerch d'Sputtermethod deposéiert gëtt, déi Sputterziel genannt gëtt.
Produit Numm | Planar Zilmaterial |
Form | Quadrat Zil, Ronn Zil |
Hot Verkaf Gréisst | Rod Zil Φ100*40mm, Φ95*40mm, Φ98*45mm, Φ80*35mm |
Quadrat Zil 3 mm, 5 mm, 8 mm, 12 mm | |
MOQ | 3 Stéck |
Material | Ti, Cr, Zr, W, Mo, Ta, Ni |
Produktioun Prozess | Schmolzen Gossmethod, Pulvermetallurgiemethod |
Notiz: Mir kënne verschidde Metallziler produzéieren a veraarbecht, a kënne verschidde Spezifikatioune personaliséieren.Weg consultéiert eis fir Detailer.
Magnetron Sputtering Beschichtung ass eng nei Aart vu kierperlecher Dampbeschichtungsmethod.Am Verglach mat der Verdampfungsbeschichtungsmethod huet et offensichtlech Virdeeler a ville Aspekter.Metal Sputtering Ziler goufen a ville Beräicher benotzt.
● Dekoratioun Industrie
● Architektonescht Glas
● Auto Glas
● Niddereg-E Glas
● Flat Panel Display
● Optesch Industrie
● Optesch Daten Stockage Industrie, etc
Ufroen an Bestellunge sollten déi folgend Informatioun enthalen:
● Zilmaterial.
● D'Form vum Zilmaterial, jee no der Form, liwwert Spezifikatioune oder liwwert Proben an Zeechnungen.
● Gitt w.e.g. Fuedemspezifikatioune fir Ziler déi threaded Verbindung brauchen, wéi: M90 * 2 (Gewënn Haaptduerchmiesser * Fuedempitch).
Weg Kontakt eis fir aner speziell Besoinen.