D'Elektronenstrahl-Verdampungsmethod ass eng Aart Vakuum-Verdampfungsbeschichtung, déi Elektronenstrahlen benotzt fir d'Verdampungsmaterial direkt ënner Vakuumbedéngungen z'erhëtzen, d'Verdampungsmaterial ze verdampen an an de Substrat ze transportéieren, a kondenséieren um Substrat fir en dënnen Film ze bilden. Am Elektronenstrahlheizungsapparat gëtt d'erhëtzt Substanz an engem Waassergekillte Kéis plazéiert, wat d'Reaktioun tëscht dem Verdampungsmaterial an der Kräizmauer vermeiden kann an d'Qualitéit vum Film beaflossen. Multiple Crucibles kënnen am Apparat plazéiert ginn fir gläichzäiteg oder separat Verdampfung an Oflagerung vu verschiddene Substanzen z'erreechen. Mat Elektronenstrahl Verdampung kann all Material verdampft ginn.
Elektronenstrahl Verdampung kann héich Schmelzpunktmaterialien verdampen. Am Verglach mat allgemenge Resistenzheizungsverdampfung huet et méi héich thermesch Effizienz, méi héich Strahlstroumdicht, a méi séier Verdampungsgeschwindegkeet. Film a Film vu verschiddenen opteschen Materialien wéi konduktiv Glas.
D'charakteristesch vun Elektronenstrahl Verdampfung ass, datt et net oder selten déi zwou Säiten vun der Zil- dräi-zweedimensional Struktur Cover wäert, an normalerweis nëmmen Dépôten op der Zil- Uewerfläch. Dëst ass den Ënnerscheed tëscht Elektronenstrahlverdampung a Sputtering.
Elektronenstrahlverdampung gëtt allgemeng am Beräich vun der Halbleiterfuerschung an der Industrie benotzt. Déi beschleunegt Elektronenenergie gëtt benotzt fir d'Materialziel ze schloen, wat d'Materialziel verdampft an eropgeet. Schlussendlech op d'Zil deposéiert.
Post Zäit: Dez-02-2022